晶泽光学氧化铈抛光粉的性能跟选择，首先我们要了解抛光粉的是组成成份，抛光粉的组成成份通常是由氧化铁、氧化锆、氧化铬、氧化铈、氧化铝、氧化硅，而各种分量的不同，对抛光粉性能的影响也不同，晶泽光学孙博士总结了下几点：

粉体的粒度大小：

颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度，过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平，平均粒度越整齐，加工要求越高。

粉体莫氏硬度：

硬度相对大的粉体具有较快的切削效果，同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果；不同的应用领域会有很大出入，包括自身加工工艺。

粉体悬浮性：

好的抛光粉要有较好的悬浮性，粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响，片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些，但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液（剂）来改善。

粉体的晶型：

粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒，决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒抛光过程中分离（破碎），使其切削性、耐磨性逐渐下降，不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。

小结，商家选择优质抛光粉时，首先要看抛光粉的参数指标，是否具有以上四点，其次还要看厂商的的信誉度，厂商的家力等。晶泽光学可根据客户要求定制抛光原料方案，晶泽光学研发生产的氧化铈抛光粉颗粒大小均匀，磨切效果好，可以为企业提出更有力的抛光解决方案。

晶泽光学目前推出的氧化铈主要产品类型：JZ-T10、JZ-T17、JZ-S75、JZ-S25、JZ-7300，后期可根据客户要求研发生产符合企业本事工艺要求的氧化铈产品。

氧化铈抛光粉，无论从颗粒度化学成分稳定性都是氧化铈抛光粉来的好，但是价格偏贵，氧化铝的多种形态造成了它的物理和化学物质的不确定性，精度要求高的情况必须要用氧化铈。

在工业领域，抛光粉是重要的研磨抛光材料，根据不同的性质，抛光粉可以分为无机抛光粉、金属抛光粉和塑料抛光粉等。稀土抛光粉是无机抛光粉中的一类，具有粉体粒度均匀、抛光质量好效率高、使用量少、寿命长、易清洗，对环境不易造成污染等优点，被人们广泛应用在液晶显示类产品的抛光加工中。同时，与其它的稀土抛光粉相比，稀土抛光粉产品中的饰基抛光粉抛光效率更高，抛光表面更为光滑，被人们称为“抛光粉之王”，是一类重要的稀土抛光粉产品，具有很好的发展前景。

以下我们重点讨论饰基稀土抛光粉的分类。对于饰基稀土抛光粉，氧化铈抛光粉的含量、微观形貌、晶型结构、以及粉体的粒度分布都对抛光粉的性能起决定性的影响作用，因此，我们通常按照稀土抛光粉中氧化铈抛光粉含量以及粉体的粒度和粒度分布来对饰基稀土抛光粉进行分类。

饰基稀土抛光粉中的主要成分是氧化铈抛光粉,饰基稀土抛光粉中的主要成分是氧化铈抛光粉，其中氧化铈抛光粉也是在抛光过程中起主要作用的物质，所以根据氧化铈抛光粉量的高低我们将钵基稀土抛光粉划分为高饰稀土抛光粉、中饰稀土抛光粉、低饰稀土抛光粉这三大类别。

高饰稀土抛光粉，CeO2含量99%, REO>98%，平均粒度在1μm-6μm。高饰稀土抛光粉的氧化铈抛光粉品味极高，抛光性能好，寿命长，在国内主要应用于硬质玻璃如精密光学镜头和石英的高速、长时间循环抛光。

其生产工艺大致分为:

1、由氯化稀土加工出的氢氧化饰产物为原材料的制备工艺，

2、以氟碳饰矿锻烧加工出的富饰产物为原材料的制备工艺。高饰稀土抛光粉的生产成本和价格较高，国内使用量较小。

中饰稀土抛光粉，氧化铈抛光粉约80%^-85%, REO为90%，平均粒度在0.4μm-1.3μm,产品含氟量3%-6%。中饰稀土抛光粉的氧化铈抛光粉品味较高，相对于高饰稀土抛光粉，所需浆液浓度在降低10%时，抛光工艺中所需的速率将提高30%，使用的抛光粉寿命能增加35%，得到抛光品表面的光洁度更能提高一个等级，此类产品较适用于对中等精度中小球面的光学镜头的抛光。对于中饰稀土抛光粉，在我国的产量及用量都不是很大，有待于继续开发。

低饰稀土抛光粉，又称为饰组混合稀土抛光粉。氧化铈抛光粉约48%-50%, RE085%一95%，平均粒度在0.4μm-1.3μm，低饰稀土抛光粉的CeO2品味较低，初始抛光能力与高级饰系稀土抛光粉相比几乎差不多，但使用寿命短，应用在电视机显像管、平板玻璃等的抛光。低饰稀土抛光粉的生产成本低，价格便宜。