· 产品参数
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品种 |
平均粒径（μm） |
TERO(%) |
CeO2（%） |
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JZ-T10 |
1.0 |
93 |
56 |
· 应用范围及特点
适用范围：JZ-T10氧化铈抛光粉适用于80-280磨耗度的材质，主要用于精密度要求高的光学研磨、抛光。JZ-T10氧化铈抛光粉的原料为碳酸稀土，和用氟碳铈精矿做的抛光粉比较，具有氧化铈浓度高、切削力大、耐久性长等特点。
用途:精密度要求高的光学研磨、抛光，适用于光学组件、ITO玻璃等。特征：切削力大、沈淀凝固少、不易堵塞抛光皮、不发生划伤、表面精度高。
用途:精密度要求高的光学研磨、抛光，适用于光学组件、ITO玻璃等。特征：切削力大、沈淀凝固少、不易堵塞抛光皮、不发生划伤、表面精度高。
· 包装规格
20kg/箱
